| 发明名称 | 除害剂、使含卤素气体无害的方法及其用途 | ||
| 摘要 | 本发明涉及提供一种除去有害气体的试剂和方法，它们对制造半导体器件过程的蚀刻或清洗步骤的废气中包含的含卤素气体具有高的单位体积除去能力，而且价格低廉。本发明特点是使用包括一定量的特定氧化铁、碱土金属化合物和活性炭的除害剂可以除去含卤素气体。当废气中包含如氯的含卤素气体或如二氧化硫的气体时，通过组合使用包括活性炭或沸石的除害剂，可以使这些气体无害。 | ||
| 申请公布号 | CN1241672C | 申请公布日期 | 2006.02.15 |
| 申请号 | CN01801169.1 | 申请日期 | 2001.05.24 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 早坂裕二;跡边仁志;古濑良雄 |
| 分类号 | B01D53/34(2006.01);B01D53/86(2006.01);A62D3/00(2006.01);B01J23/78(2006.01) | 主分类号 | B01D53/34(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 周承泽 |
| 主权项 | 1.一种使含卤素气体无害的除害剂，该除害剂包括10-40％重量选自γ-氧化铁氢氧化物和γ-氧化铁的氧化铁，20-80％重量碱土金属化合物和10-40％重量活性炭，以及，以氧化铁、碱土金属化合物和活性炭总重量为1重量份计，0-0.2重量份的硫酸钙。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||