薄膜逐层沉积的方法和设备

摘要

简单地增加ALP的方法，本发明的优选实施方式包括增加ALP处理量的方法，该方法通过持续调节反应器中的气流，以获得晶片上的逐层生长而实现。第一反应物以载气的某一百分比被引入。第一时间间隔之后，第一反应物流量被降低，而载气流量被增加，以维持近似恒定的总气流。当第一反应物流量达到最小预先设定的数量时，第二反应物流被起动，并被增加，同时载气流量被降低，以维持恒定的总气流。该方法可替换性地包括增强反应物吸收和化学吸附的物质，该物质或者作为与表面反应的第一施加气体，或者作为反应物的附加的配体。还可进一步可替换性地包括周期性快速热退火以改善模性质，并行晶片处理和反应物容器。

主权项

1.一种材料沉积的方法，包括：通过原子层处理在至少一个衬底上沉积所述材料，包括，将一系列气体顺序地注入到反应物室中，而不在注入另一种气体之前从所述室中清洗掉一种气体。