| 发明名称 | 磁记录介质、其制造方法及磁读/写装置 | ||
| 摘要 | 一种磁记录介质，其在非磁性基片上提供软磁性底涂膜、第一底涂膜、第二底涂膜、垂直磁记录膜、以及保护膜，并且所述第一底涂膜由Pt、Pd或包括Pt和Pd中至少一种的合金构成，所述第二底涂膜由Ru或Ru合金构成。 | ||
| 申请公布号 | CN1735932A | 申请公布日期 | 2006.02.15 |
| 申请号 | CN200480002118.2 | 申请日期 | 2004.01.14 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社;株式会社东芝 | 发明人 | 清水谦治;坂胁彰;小林一雄;N·T·董;酒井浩志;彦坂和志;及川壮一;前田知幸;中村太 |
| 分类号 | G11B5/64(2006.01) | 主分类号 | G11B5/64(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 杨晓光;于静 |
| 主权项 | 1.一种磁记录介质，其在非磁性基片上提供至少软磁性底涂膜、第一底涂膜，其控制在其紧上方的膜的取向、第二底涂膜、垂直磁记录膜，其易磁化轴通常取向为垂直于所述基片、以及保护膜，其中所述第一底涂膜由Pt、Pd或包括Pt和Pd中至少一种的合金构成，并且所述第二底涂膜由Ru或Ru合金构成。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||