| 发明名称 |
制造于一个基板上形成积体电路与液晶显示器部份之基板用正型光阻组成物及光阻图型之形成方法 |
| 摘要 |
本发明系提供一种解像性、DOF特性良好，适合i线曝光，线性、感度优异，于一个基板上形成积体电路与液晶显示器部份之基板制造用(系统LCD用)正型光阻组成物。该系统LCD用正型光阻组成物，系由(A)硷可溶性树脂、(B)二叠氮酯化物、以及(C)分子量1000以下含酚性氢氧基化合物溶解于有机溶剂所构成之正型光阻组成物，其特征为：上述(B)成分系包含非二苯甲酮系含酚性氢氧基化合物以及1,2-二叠氮磺酸化合物之酯化反应生成物，且该光阻组成物的色值在0.15以下。 |
| 申请公布号 |
TWI249086 |
申请公布日期 |
2006.02.11 |
| 申请号 |
TW093113492 |
申请日期 |
2004.05.13 |
| 申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
大内康秀;宫城贤;中岛哲矢 |
| 分类号 |
G03F7/22 |
主分类号 |
G03F7/22 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
| 主权项 |
1.一种制造于一个基板上形成积体电路与液晶显 示器部份之基板用正型光阻组成物,系由(A)硷可溶 性树脂、(B)二叠氮酯化物、以及(C)分子量1000 以下含酚性氢氧基化合物溶解于有机溶剂所构成 之正型光阻组成物,其特征为: 该(B)成分系包含下述一般式(I) |
| 地址 |
日本 |
