首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verfahren zum Ausbilden eines Kompensationsgebiets und Verwendung des Verfahrens zur Herstellung eines Kompensationshalbleiterbauelements
摘要
申请公布号 DE10239580(B4) 申请公布日期 2006.01.26
申请号 DE20021039580 申请日期 2002.08.28
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 RUEB, MICHAEL
分类号 H01L21/328;H01L21/329;H01L21/331;H01L21/332;H01L21/336;H01L29/06;H01L29/78 主分类号 H01L21/328
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com