| 发明名称 | 衬底上薄膜的制作方法 | ||
| 摘要 | 在预备步骤中，在测试衬底与激光束在靶(12)上的入射点的空间位置之间存在着固定的位置关系的状态下，在将激光束(LB)照射在靶(12)上的同时，或在将激光束(LB)照射在靶(12)上并旋转测试衬底的同时，预先得到有关淀积在用来在固定的辐照时间内收集信息的测试衬底(11)上的膜厚度的信息。在主要步骤中，根据预先在预备步骤中得到的膜厚度分布信息，调整各个相对位置关系处的淀积时间，同时相对于激光束(LB)到靶(12)的入射点空间移动或绕特定的旋转中心轴旋转衬底(1)或衬底夹具(21)，或同时执行所述相对旋转和所述相对移动二者。 | ||
| 申请公布号 | CN1726300A | 申请公布日期 | 2006.01.25 |
| 申请号 | CN200380106434.X | 申请日期 | 2003.11.07 |
| 申请人 | 独立行政法人产业技术综合研究所 | 发明人 | 酒井滋树 |
| 分类号 | C23C14/28(2006.01);C23C14/54(2006.01) | 主分类号 | C23C14/28(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1.一种利用激光蒸发方法在衬底上成膜的方法，其中，激光束被照射在置于抽真空的淀积工作室内的靶上，致使被所述激光束辐照的靶表面部分内的靶材料蒸发，且所述蒸发的靶材料被淀积在所述淀积工作室内由衬底夹具支持的衬底的表面上，所述在衬底上成膜的方法的特征在于包含下列步骤：在预备步骤中，在所述测试衬底与所述激光束在所述靶上的入射点的空间位置之间存在着固定的位置关系的状态下，在将所述激光束照射在所述靶上的同时，或在旋转所述测试衬底并将所述激光束照射在所述靶上的同时，预先得到有关淀积在用来在固定的辐照时间内收集信息的测试衬底上的膜厚度的信息，然后；在主要步骤中，根据预先在预备步骤中得到的膜厚度分布信息，调整各个相对位置关系处的淀积时间，同时相对于所述激光束到所述靶的入射点空间移动或绕特定的旋转中心轴旋转衬底或衬底夹具，或同时执行所述相对旋转和所述相对移动二者。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||