发明名称 |
在位式光电分析系统测量通道的除污方法及其装置 |
摘要 |
本发明涉及一种对在位式光电分析系统进行维护的方法及其装置。除污方法包含有下述步骤:a.关闭设置在通道上的根部阀;b.卸下设于根部阀外端的的分析系统测量探头,安装上与之相配的除污装置,使被测环境仍与外界处于隔离状态;c.打开根部阀,操作除污装置,清除堵塞污物;d.清理完毕后,关闭根部阀;e.卸下除污装置,重新装上分析系统测量探头。专用的除污装置,在根部阀外侧设置有除污套筒,其内设置有可经根部阀伸至内侧通道的除污件等结构。因此,密封性能好,可随时除污清堵,实现了不停车除污,显著提高利用率;堵塞物的清除由除污工具的捅戳推挤钻刷等实现,无需清洗剂,不会对设备产生损伤;结构简单、易于组装,操作过程简易、快速,易于实施。 |
申请公布号 |
CN1724182A |
申请公布日期 |
2006.01.25 |
申请号 |
CN200410053371.2 |
申请日期 |
2004.07.23 |
申请人 |
聚光科技(杭州)有限公司 |
发明人 |
王健;杨宏;刘罡;王静 |
分类号 |
B08B9/027(2006.01);G01N21/01(2006.01) |
主分类号 |
B08B9/027(2006.01) |
代理机构 |
杭州杭诚专利事务所有限公司 |
代理人 |
尉伟敏 |
主权项 |
1.一种在位式光电分析系统测量通道的除污方法,涉及到系统的测量探头,以及将其与被测量环境相连接的测量通道,在通道上设有根部阀(3),其特征在于所述的除污方法包含有下述步骤:a.关闭设置在通道上的根部阀(3),使被测环境与外界处于隔离状态;b.卸下安装在根部阀外测的分析系统测量探头,安装上与之相配的除污装置(5);c.打开根部阀,操作除污装置(5),保持被测环境与外界处于隔离状态,对位于通道里的堵塞污物进行清理;d.清理完毕后,把除污件(11)拉回到根部阀(3)外侧,关闭根部阀(3);e.卸下除污装置(5),重新装上分析系统测量探头。 |
地址 |
310012浙江省杭州文三路199号创业大厦4楼 |