发明名称 玻璃模造之模仁及其再生方法
摘要 本发明揭示一易于加工再生的玻璃模造之模仁及其再生方法,上述模仁包含:一底材;磷含量不大于30wt%的一镍磷合金层,于上述底材上;一中间层,于上述镍磷合金层上;以及一保护层,于上述中间层上。
申请公布号 TWI247728 申请公布日期 2006.01.21
申请号 TW093110035 申请日期 2004.04.09
申请人 亚洲光学股份有限公司 发明人 白瑞芬
分类号 C03B11/08 主分类号 C03B11/08
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路4段279号3楼;颜锦顺 台北市大安区信义路4段279号3楼
主权项 1.一种玻璃模造之模仁,包含: 一底材; 一镍磷合金层,于该底材上,且磷含量不大于30wt%; 一中间层,于该镍磷合金层上,该中间层为贵金属; 以及 一保护层,于该中间层上,该保护层为贵金属。 2.如申请专利范围第1项所述之玻璃模造之模仁,其 中该底材为碳化钨。 3.如申请专利范围第1项所述之玻璃模造之模仁,其 中该镍磷合金层更包含0.1~10wt%的钨、钽、锰或其 合金。 4.如申请专利范围第1项所述之玻璃模造之模仁,其 中该镍磷合金层的厚度为20~100m。 5.如申请专利范围第1项所述之玻璃模造之模仁,其 中该中间层为铱、铼、铂、钌、姥、锇中的至少 两种以上元素之组合与镍的合金。 6.如申请专利范围第1项所述之玻璃模造之模仁,其 中该中间层的厚度为0.1~1m。 7.如申请专利范围第1项所述之玻璃模造之模仁,其 中该保护层为铱、铼、铂、钌、铐、锇中的至少 两种以上元素之组合。 8.如申请专利范围第1项所述之玻璃模造之模仁,其 中该保护层的厚度为0.02~0.3m。 9.一种玻璃模造之模仁的再生方法,包含: 提供一使用过的玻璃模造之模仁,具有一底材、磷 含量不大于30wt%的一镍磷合金层于该底材上、一 第一中间层于该镍磷合金层上、与一第一保护层 于该第一中间层上,该第一中间层为贵金属、该第 一保护层为贵金属; 以该镍磷合金层为停止层,以研磨方式移除该第一 保护层与该第一中间层,暴露该镍磷合金层的一表 面; 清洗该镍磷合金层暴露的表面; 形成一第二中间层于该镍磷合金层上,该第二中间 层为贵金属;以及 形成一第二保护层于该第二中间层上,该第二保护 层为贵金属。 10.如申请专利范围第9项所述之玻璃模造之模仁的 再生方法,其中该底材为碳化钨。 11.如申请专利范围第9项所述之玻璃模造之模仁的 再生方法,其中该镍磷合金层更包含0.1~10wt%的钨、 钽、锰或其合金。 12.如申请专利范围第9项所述之玻璃模造之模仁的 再生方法,其中当移除该第一保护层与该第一中间 层后,更包括以研磨方式抛光该镍磷合金层。 13.如申请专利范围第12项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该镍磷合金层的磷含量为1~10wt% 。 14.如申请专利范围第9项所述之玻璃模造之模仁的 再生方法,其中当移除该第一保护层与该第一中间 层后,更包括以切削方式抛光该镍磷合金层。 15.如申请专利范围第14项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该镍磷合金层的磷含量为4~30wt% 。 16.如申请专利范围第15项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该镍磷合金层的磷含量最好为10~ 30 wt%。 17.如申请专利范围第9项所述之玻璃模造之模仁的 再生方法,其中移除该第一保护层与该第一中间层 后,更包含修整该镍磷合金层暴露的表面。 18.如申请专利范围第17项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,更包含使用一钻石刀具修整该镍磷合 金层暴露的表面。 19.如申请专利范围第18项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该镍磷合金层的磷含量为4~30wt% 。 20.如申请专利范围第9项所述之玻璃模造之模仁的 再生方法,其中该第二中间层的厚度为0.1~1m。 21.如申请专利范围第9项所述之玻璃模造之模仁的 再生方法,其中该第一保护层与该第二保护层为铱 、铼、铂、钌、铑、锇中的至少两种以上元素之 组合,且该第二保护层的材质与该第一保护层大体 相同。 22.如申请专利范围第9项所述之玻璃模造之模仁的 再生方法,其中该第一保护层与该第二保护层为铱 、铼、铂、钌、铑、锇中的至少两种以上元素之 组合,且该第二保护层的材质与该第一保护层不同 。 23.如申请专利范围第9项所述之玻璃模造之模仁的 再生方法,其中该第二保护层的厚度为0.02~0.3m。 24.一种玻璃模造之模仁的再生方法,包含: 提供一使用过的玻璃模造之模仁,具有一底材、磷 含量不大于30wt%的一第一镍磷合金层于该底材上 、一第一中间层于该第一镍磷合金层上、与一第 一保护层于该中间层上,该第一中间层为贵金属、 该第一保护层为贵金属; 使用一钻石研磨轮装置移除该第一保护层与该第 一中间层; 以该底材为停止层,移除该第一镍磷合金层,暴露 该底材之一表面; 清洗该底材暴露的表面; 形成磷含量不大于30wt%的一第二镍磷合金层于该 底材上; 形成一第二中间层于该第二镍磷合金层上,该第二 中间层为贵金属;以及 形成一第二保护层于该第二中间层上,该第二保护 层为贵金属。 25.如申请专利范围第24项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该底材为碳化钨。 26.如申请专利范围第24项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,更包含使用硝酸移除该第一镍磷合金 层。 27.如申请专利范围第24项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该第一镍磷合金层与该第二镍磷 合金层更包含0.1~10wt%的钨、钽、锰、或上述之组 合,且该第二镍磷合金层的材质与该第一镍磷合金 层大体相同。 28.如申请专利范围第24项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该第一镍磷合金层与该第二镍磷 合金层更包含0.1~10wt%的钨、钽、锰、或上述之组 合,且该第二镍磷合金层的材质与该第一镍磷合金 层不同。 29.如申请专利范围第24项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该第二镍磷合金层的厚度为20~100 m。 30.如申请专利范围第24项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该第一中间层与该第二中间层为 铱、铼、铂、钌、铑、锇中的至少两种以上元素 之组合与镍的合金,且该第二中间层的材质与该第 一中间层大体相同。 31.如申请专利范围第24项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该第一中间层与该第二中间层为 铱、铼、铂、钌、铑、锇中的至少两种以上元素 之组合与镍的合金,且该第二中间层的材质与该第 一中间层不同。 32.如申请专利范围第24项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该第二中间层的厚度为0.1~1m。 33.如申请专利范围第24项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该第一保护层与该第二保护层为 铱、铼、铂、钌、铑、锇中的至少两种以上元素 之组合,且该第二保护层的材质与该第一保护层大 体相同。 34.如申请专利范围第24项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该第一保护层与该第二保护层为 铱、铼、铂、钌、铑、锇中的至少两种以上元素 之组合,且该第二保护层的材质与该第一保护层不 同。 35.如申请专利范围第24项所述之玻璃模造之模仁 的再生方法,其中该第二保护层的厚度为0.02~0.3m 。 图式简单说明: 第1图为一剖面图,系显示本发明之玻璃模造之模 仁的结构。 第2A~2F图为一系列之剖面图,系显示本发明之玻璃 模造之模仁的再生方法的流程。 第3A~3E图为一系列之剖面图,系显示本发明之另一 玻璃模造之模仁的再生方法的流程。
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