光刻投射装置及使用这种光刻投射装置的器件制造方法

摘要

为对特定应用最重要的这些像差要比对特定应用不太重要的像差给予优先补偿，在光刻投射装置中被使用这样一种制造方法。在具有接受图像的目标部分的衬底，按照所要的图案化应用赋予图案的掩模和将选择的辐射束投射在掩模上产生特定要求的图案化束从而在目标部分形成图案的图像的投射系统中，该方法包括：预测投射系统像差随时间变化；确定这样预测的投射系统像差变化相对一些测量的像差值对一些图像参数的应用相关影响；按照投射系统中这种预测的投射系统像差随时间的变化和它们对一些图像参数的应用相关影响产生针对所要求图案化束的控制信号；以及按照控制信号执行图像调节以补偿预测的图像像差变化应用相关影响。

主权项

1.一种光刻投射装置，其中包括：用以支持将所选择图案赋予辐射束的图案化器的支持结构；用以固定衬底的衬底台；用以将图案化的束投射到衬底目标部分从而形成图案的投射系统；用以相对于测量像差值预测投射系统像差随时间变化的预测系统；用以确定所述预测投射系统像差变化对所选择图案的图像的至少一个参数的应用相关影响的模型化系统；用以按照所述预测投射系统像差变化和它们对图像的至少一个参数的应用相关影响来产生针对选择图案的控制信号的控制系统；以及响应该控制信号补偿所述预测投射系统像差变化对图像的应用相关影响的图像调节系统。