| 发明名称 | 清洗剂组合物、半导体晶片的清洗和制造方法、以及半导体晶片 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种含有下列化学式(I)所示的非离子型表面活性剂和氢氧化季铵的清洗剂组合物：R<SUP>1</SUP>O(EO)<SUB>x</SUB> (PO)<SUB> y</SUB>H (I)，其中R<SUP>1</SUP>代表含有6至20个碳原子的直链或支链烷基，或者含有6至20个碳原子的直链或支链链烯基，EO代表氧化乙烯基团，PO代表氧化丙烯基团，EO和PO各自通过无规加成或嵌段加成而键合，EO的数x和PO的数y设置为任意级别，x和y各自独立地代表1至20的整数，且x/(x+y)为0.5或更大。此外，还提供了使用该清洗剂组合物清洗和制造半导体晶片的方法，以及通过该制造方法制得的半导体晶片。 | ||
| 申请公布号 | CN1723273A | 申请公布日期 | 2006.01.18 |
| 申请号 | CN200380105489.9 | 申请日期 | 2003.12.10 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 雨宫正博;田中善雄 |
| 分类号 | C11D11/00(2006.01);C11D1/722(2006.01);C11D3/30(2006.01);H01L21/302(2006.01);H01L21/306(2006.01) | 主分类号 | C11D11/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 林柏楠;刘金辉 |
| 主权项 | 1.一种含有下列化学式(I)所示的非离子型表面活性剂和氢氧化季铵的清洗剂组合物：R1O(EO)x(PO)yH (I)其中R1代表含有6至20个碳原子的直链或支链烷基，或者含有6至20个碳原子的直链或支链链烯基，EO代表氧化乙烯基团，PO代表氧化丙烯基团，EO和PO各自通过无规加成或嵌段加成而键合，EO的数x和PO的y数设置为任意级别，x和y各自独立地代表1至20的整数，且x/(x+y)为0.5或更大。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||