发明名称 Process Chamber of Plasma Process System
摘要
申请公布号 KR100541541(B1) 申请公布日期 2006.01.12
申请号 KR19990035683 申请日期 1999.08.26
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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