发明名称 半导体器件制造装置用处理管
摘要 1.本外观设计的产品由透明材料制成;2.本外观设计的产品用于半导体制造。
申请公布号 CN3498502D 申请公布日期 2006.01.11
申请号 CN200430049918.2 申请日期 2004.04.30
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 石井胜利;松浦广行
分类号 23-03 主分类号 23-03
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人 柳春雷
主权项
地址 日本东京都