发明名称 | 半导体器件制造装置用处理管 | ||
摘要 | 1.本外观设计的产品由透明材料制成;2.本外观设计的产品用于半导体制造。 | ||
申请公布号 | CN3498502D | 申请公布日期 | 2006.01.11 |
申请号 | CN200430049918.2 | 申请日期 | 2004.04.30 |
申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 石井胜利;松浦广行 |
分类号 | 23-03 | 主分类号 | 23-03 |
代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 柳春雷 |
主权项 | |||
地址 | 日本东京都 |