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发明名称
PHOTORESIST COMPOSITIONS
摘要
申请公布号
EP1614005(A2)
申请公布日期
2006.01.11
申请号
EP20040718941
申请日期
2004.03.10
申请人
AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP.
发明人
EILBECK, J. NEVILLE
分类号
G03F7/022;G03F7/00;G03F7/023;G03F7/30;(IPC1-7):G03F7/023
主分类号
G03F7/022
代理机构
代理人
主权项
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