首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 BLANK MASK AND PHOTO MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THEREOF
摘要
申请公布号 KR20060003150(A) 申请公布日期 2006.01.10
申请号 KR20040051948 申请日期 2004.07.05
申请人 S & STECH CO., LTD. 发明人 CHA, HAN SUN;YANG, SIN JU;SEO, SUNG MIN;NAM, KI SOO
分类号 G03F1/26;G03F1/46 主分类号 G03F1/26
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com