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发明名称 Ion implantation apparatus capable of increasing beam current
摘要
申请公布号 GB2378313(B) 申请公布日期 2006.01.04
申请号 GB20020008395 申请日期 2002.04.11
申请人 SUMITOMO EATON NOVA CORPORATION 发明人 MITSUKUNI TSUKIHARA;MITSUAKI KABASAWA;MICHIRO SUGITANI;HIROKI MUROOKA;HIROSHI MATSUSHITA
分类号 C23C14/48;H01J37/317;G21K1/08;H01J37/09;H01L21/265 主分类号 C23C14/48
代理机构 代理人
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