发明名称 ZnS-SiO<SUB>2</SUB>溅射靶及使用该靶形成了ZnS-SiO<SUB>2</SUB>相变化型光盘保护膜的光记录媒体
摘要 本发明涉及一种相对密度为90%以上的ZnS-SiO<SUB>2</SUB>溅射靶,其特征在于,使用将1-50摩尔%SiO<SUB>2</SUB>系玻璃粉末与其余的ZnS粉末均匀分散、混合的粉末烧结而成,所述的SiO<SUB>2</SUB>系玻璃粉末含有总计0.01-20重量%选自金属元素、硼、磷、砷或它们的氧化物的一种以上作为添加剂。通过能够以低成本稳定制造SiO<SUB>2</SUB>晶粒小、相对密度90%以上的靶,得到光盘保护膜形成用溅射靶,它能够进一步提高沉积的均匀性和提高生产率,并得到使用该溅射靶形成了ZnS-SiO<SUB>2</SUB>相变化型光盘保护膜的光记录媒体。
申请公布号 CN1235213C 申请公布日期 2006.01.04
申请号 CN01822686.8 申请日期 2001.11.30
申请人 株式会社日矿材料 发明人 矢作政隆;高见英生
分类号 G11B7/26(2006.01);C23C14/34(2006.01);G11B7/24(2006.01) 主分类号 G11B7/26(2006.01)
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 樊卫民;杨青
主权项 1.一种相对密度为90%以上的ZnS-SiO2溅射靶,其特征在于,使用将1-50摩尔%SiO2系玻璃粉末与其余的ZnS粉末均匀分散、混合的粉末烧结而成,所述的SiO2系玻璃粉末含有总计0.01-20重量%选自硼、磷、砷、金属元素、或它们的氧化物的一种以上作为添加剂,所述的金属元素由锂、钠、镁、钾、钙、钡组成。
地址 日本东京