| 发明名称 |
Anodization-adapted aluminum alloy and plasma-treating apparatus made thereof |
| 摘要 |
An anodization-adapted aluminum alloy containing 2.0 to 3.5 wt % Mg and the remainder of 99.9 wt % or greater high-purity aluminum.
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| 申请公布号 |
US6982121(B2) |
申请公布日期 |
2006.01.03 |
| 申请号 |
US20030657337 |
申请日期 |
2003.09.08 |
| 申请人 |
KYUSHYU MITSUI ALUMINUM CO. LTD. |
发明人 |
HASUO SYUNJI;GONTA MINEO |
| 分类号 |
B01J3/00;B32B15/00;B01J19/08;C22C21/06;C23C16/44;C25D11/04 |
主分类号 |
B01J3/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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