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发明名称
形成凸点(Bump)用之二层层合膜,及凸点之形成方法
摘要
本发明为关于将含有具有特定构造单位之聚合物(A)、及有机溶剂(B)的组成物,使用做为形成凸点用二层层合膜之下层为其特征之形成凸点用之负型感放射线性二层层合膜,及使用该层合膜之凸点的形成方法的发明。根据此类之本发明,则可提供焊料糊浆之印刷性、及图案形状优良、亦容易由基板剥离之形成凸点用之负型感放射线性二层层合膜,及使用其之凸点的制造方法。094105010-p01.bmp
申请公布号
TW200600975
申请公布日期
2006.01.01
申请号
TW094105010
申请日期
2005.02.18
申请人
JSR股份有限公司
发明人
西村洋子;太田克;猪克巳;岩永伸一郎
分类号
G03F7/11;H05K3/34
主分类号
G03F7/11
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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