| 主权项 |
1.一种偏光片制程,包括: 提供一透明基板; 于该透明基板上涂布偏光基体材料; 提供复数滚轮装置,利用该复数滚轮装置对所经过 之偏光基体材料施力以使偏光基体材料微粒作有 方向性之排列;及 提供一雷射照射装置,对偏光基体材料照射处理以 进一步使偏光基体材料微粒作有方向性之排列。 2.如申请专利范围第1项所述之偏光片制程,其改良 在于:该偏光基体材料为碘系偏光材料、染料系偏 光材料及金属偏光材料群组中任意一种。 3.如申请专利范围第1项所述之偏光片制程,其改良 在于:该偏光基体材料为聚乙烯醇。 4.如申请专利范围第1项所述之偏光片制程,其改良 在于:该制程还包括对偏光片进行抗反射处理。 5.如申请专利范围第4项所述之偏光片制程,其改良 在于:该抗反射处理系于偏光片表面设置抗反射层 。 6.如申请专利范围第1项所述之偏光片制程,其改良 在于:该制程还包括对偏光片进行抗眩处理。 7.一种偏光片制造装置,包括: 复数滚轮装置,其可对所经过之偏光基体材料施力 以使偏光基体材料微粒作有方向性之排列;及 设置于该复数滚轮装置后之雷射照射装置,其可对 偏光基体材料照射处理以进一步使偏光基体材料 微粒作有方向性之排列。 8.如申请专利范围第7项所述之偏光片制造装置,其 改良在于:该复数滚轮装置还包括设置于其内之压 电型感应装置。 9.如申请专利范围第7项所述之偏光片制造装置,其 改良在于:该雷射照射装置与偏光片之透明基板法 线之夹角为30~75 图式简单说明: 第一图系一种先前技术偏光片制程之流程图。 第二图系本发明偏光片制程之流程图。 第三图系本发明偏光片制造装置之结构示意图。 |
