发明名称 Verfahren und Vorrichtung zur Plasmabehandlung von Werkstücken
摘要 Das Verfahren und die Vorrichtung dienen zur Plasmabehandlung von Werkstücken. Die Werkstücke werden in eine zumindest teilweise evakuierbare Plasmakammer einer Behandlungsstation eingesetzt, wobei die Plasmakammer von einem rotationsfähigen Plasmarad entlang eines geschlossenen Umlaufweges transportiert wird. Mindestens zwei Werkstücke werden von Halteelementen innerhalb der Behandlungsstation positioniert. Ebenfalls werden mindestens zwei Halteelemente der Behandlungsstation in einer Arbeitspositionierung mit einem relativ zueinander unterschiedlichen radialen Abstand zu einer Rotationsachse des Plasmarades positioniert.
申请公布号 DE102004029677(A1) 申请公布日期 2005.12.29
申请号 DE200410029677 申请日期 2004.06.18
申请人 SIG TECHNOLOGY LTD., NEUHAUSEN AM RHEINFALL 发明人 LEWIN, FRANK;MUELLER, HARTWIG
分类号 B65G29/00;C23C16/511;C23C16/54;H01J37/32;(IPC1-7):C23C16/54 主分类号 B65G29/00
代理机构 代理人
主权项
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