具有散射光强倍增系统的硅片表面缺陷检测仪

摘要

一种具有散射光强倍增系统的硅片表面缺陷检测仪，包括激光入射系统和缺陷散射光收集系统，其特点是还有：散射光强倍增系统，由第一球面反射镜和第二球面反射镜构成；在第一焦点的第二次反射光路上设有一光陷阱；所述的缺陷散射光收集系统的光轴与所述的待测硅片的法线之间的夹角为β；所述的第一球面反射镜和第二球面反射镜位于一光轴调整架上，待测硅片的平动和转动由精密工作台实现，所述的平面反射镜、第一球面反射镜、第二球面反射镜和光陷阱之间的位置满足几何光学的物像关系。本发明解决了光学元件易损伤；使待测硅片的缺陷散射光强倍增并且两次缺陷散射光比较集中，有利于的收集；避开了硅片表面散射信号的干扰。

主权项

1.一种具有散射光强倍增系统的硅片表面缺陷检测仪，包括激光入射系统和缺陷散射光收集系统，所述的激光入射系统由激光器(9)、扩束系统(10)、聚焦镜(11)和平面反射镜(12)构成，所述的缺陷散射光收集系统由一聚光镜组(21)和位于该聚光镜组(21)的焦点位置光电探测器(22)组成，其特征在于还有：①散射光强倍增系统，由第一球面反射镜(20)和第二球面反射镜(14)构成，其位置关系是：由平面反射镜(12)输出的光束聚焦于待测硅片(15)表面的第一焦点(18)，光束经第一焦点(18)反射，在该反射光方向设有一顺时针偏转θ角的第一球面反射镜(20)，经该第一球面反射镜(20)的反射光聚焦入射于待测硅片(15)表面的第二焦点(16)，该光束经第二焦点(16)反射，在第二焦点(16)反射光方向设有与该反射光方向逆时针偏转θ角的第二球面反射镜(14)，其反射光再次聚焦至待测硅片(15)表面的第一焦点(18)；②在第一焦点(18)的第二次反射光路上设有一光陷阱(19)；③所述的缺陷散射光收集系统的光轴与所述的待测硅片(15)的法线之间的夹角为β；④所述的第一球面反射镜(20)和第二球面反射镜(14)位于一光轴调整架(13)上，待测硅片(15)的平动和转动由精密工作台(17)实现，所述的平面反射镜(12)、第一球面反射镜(20)、第二球面反射镜(14)和光陷阱(19)之间的位置满足几何光学的物像关系。