发明名称 |
光学性能恢复设备、恢复方法以及用于该设备的光学系统 |
摘要 |
本发明的目的在于防止或抑制决定光学设备寿命的光学系统的衰减,其中所述光学设备实现例如光线透射、衍射、反射、光谱产生、以及干涉和其组合的效果。采用上述方式,可以降低维修操作频率如窗口更换并降低此操作的成本。本发明的特征在于通过以下步骤实现:产生具有活性能量存在的近真空区,以激发碳的氧化反应,其中所述近真空区面对所述光学系统的所述光线表面;在所述近真空区产生负离子或基团,例如含有氧原子的不稳定的基团如OH基、OH<SUP>-</SUP>离子、臭氧、O<SUB>2</SUB><SUP>-</SUP>离子、O<SUP>-</SUP>基;并通过沉积的碳与负离子或基团进行反应,消除或减少积聚在所述照明表面上的积聚的碳。 |
申请公布号 |
CN1704180A |
申请公布日期 |
2005.12.07 |
申请号 |
CN200410046441.1 |
申请日期 |
2004.05.31 |
申请人 |
三菱重工业株式会社 |
发明人 |
坂井智嗣;鹤我薰典;山越英男;栗林志头真;团野实;二见博;山崎纪子 |
分类号 |
B08B7/00;C03C23/00;H01J61/00;G03F7/20;H01L21/027 |
主分类号 |
B08B7/00 |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
刘晓峰 |
主权项 |
1.一种用于通过位于输出光线或沿所述输出光线的光线路径防止、抑制、或改善光学系统的光学性能的衰减,以改进光学系统的光学性能的可靠性和寿命的光学性能恢复装置,其中所述光学系统设置在有机成分可以被分解的近真空区内,所述衰减由于沉积或积聚在所述光学系统的光线照射表面、光线反射表面、光线发射表面(统一称为‘照明表面’)的碳产生,所述表面面对所述真空区,所述光学性能恢复设备包括:产生有活性能量存在的近真空区以激发碳的氧化反应的装置,所述近真空区面对所述光学系统的所述照明表面;在所述近真空区产生负离子或基团的装置;促进在所述近真空区的所述负离子或基团和所述碳之间的氧化反应的装置;以及其中所述光学性能恢复设备通过氧化反应消除或减少沉积在所述照明表面的积聚的碳。 |
地址 |
日本东京 |