发明名称 Verfahren zur Erzeugung eines Dotierprofils bei einer Gasphasendotierung
摘要
申请公布号 DE10121778(B4) 申请公布日期 2005.12.01
申请号 DE2001121778 申请日期 2001.05.04
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 HAUPT, MORITZ;MORGENSCHWEIS, ANJA;OTTENWAELDER, DIETMAR;SCHROEDER, UWE
分类号 H01L21/223;H01L21/8242;(IPC1-7):H01L21/223;H01L21/824 主分类号 H01L21/223
代理机构 代理人
主权项
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