| 发明名称 | 水处理装置 | ||
| 摘要 | 一种水处理装置，该水处理装置可使脱氮处理的效率高于目前的水平，可更有效地进行脱氮处理，还可抑制氯气的发生。在用于对水(w1)进行脱氮处理的电解槽(11)或用于向电解槽(11)供水并从电解槽(11)排出处理后的水的处理水路(10)中，设有pH传感器(S2)，该pH传感器用于测定流过处理水路(10)的水(w1)的pH，并设置用于将酸性剂(11)供到水中的酸性剂供给机构(12)，为了在电解槽(11)中的电化学反应时，将pH传感器(S2)的测定值保持在8以下，从酸性剂供给机构(12)供给酸性剂(L1)。通过将电化学反应时的水的pH抑制在8以下，使脱氮处理的效率高于目前水平，可抑制氯气的发生。 | ||
| 申请公布号 | CN1229283C | 申请公布日期 | 2005.11.30 |
| 申请号 | CN03156174.8 | 申请日期 | 2003.09.02 |
| 申请人 | 三洋电机株式会社 | 发明人 | 稻本吉宏;广田达哉;杉本宗明;中西稔;岸稔;广直树 |
| 分类号 | C02F1/461;C02F1/66 | 主分类号 | C02F1/461 |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 1.一种水处理装置，该水处理装置包括电解槽，该电解槽用于通过借助水中的电化学反应，还原氧化态氮，对水进行脱氮处理；处理水路，该处理水路用于将水供给该电解槽，并且将处理后的水从电解槽排出；pH传感器，该pH传感器用于测定流过处理水路的水的pH；酸性剂供给机构，该酸性剂供给机构用于将酸性剂供给到供向电解槽中的水中；控制机构，该控制机构用于从酸性剂供给机构供给酸性剂，以便在电解槽中的电化学反应时，将pH传感器的测定值保持在8以下。 | ||
| 地址 | 日本国大阪府 | ||