发明名称 透明氧化物半导体薄膜晶体管
摘要 本发明涉及新型透明氧化物半导体薄膜晶体管(TFT)及其制造方法。
申请公布号 CN1703772A 申请公布日期 2005.11.30
申请号 CN200380101292.8 申请日期 2003.10.10
申请人 纳幕尔杜邦公司 发明人 P·F·卡西亚;R·S·麦克莱恩
分类号 H01L21/363;H01L21/365;H01L29/24 主分类号 H01L21/363
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 卢新华;王景朝
主权项 1.一种在场效应晶体管中沉积选自氧化锌、氧化铟、氧化锡和氧化镉的无掺杂的透明氧化物半导体的方法,包括选自以下的一种方法:a)在混合了惰性气体的氧气有效分压下物理气相沉积无掺杂的TOS;b)在有效氧气分压下电阻蒸发无掺杂的TOS;c)在有效氧气分压下激光蒸发无掺杂的TOS;d)在有效氧气分压下电子束蒸发无掺杂的TOS;和e)在有效氧气分压下化学气相沉积无掺杂的TOS。
地址 美国特拉华州