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发明名称 TAILORING NITROGEN PROFILE IN SILICON OXYNITRIDE USING RAPID THERMAL ANNEALING WITH AMMONIA UNDER ULTRA-LOW PRESSURE
摘要
申请公布号 EP1597752(A2) 申请公布日期 2005.11.23
申请号 EP20040708266 申请日期 2004.02.04
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 NARWANKAR, PRAVIN, K.;MINER, GARY;LEPERT, ARAUD
分类号 H01L21/28;H01L21/3105;H01L21/314;H01L21/334;H01L29/51;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
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