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发明名称 A method for eliminating defects in poly etch process
摘要
申请公布号 KR100530511(B1) 申请公布日期 2005.11.22
申请号 KR20030006442 申请日期 2003.01.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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