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发明名称
POLISHING AND CLEANING APPARATUS OF SEMICONDUCTOR WAFER AND CONTROL METHOD THEREOF
摘要
申请公布号
KR100529634(B1)
申请公布日期
2005.11.17
申请号
KR20030079755
申请日期
2003.11.12
申请人
发明人
分类号
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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