| 发明名称 |
PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION EQUIPPED WITH CLEANING OXYGEN GAS LINE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20050108938(A) |
申请公布日期 |
2005.11.17 |
| 申请号 |
KR20040034388 |
申请日期 |
2004.05.14 |
| 申请人 |
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. |
发明人 |
KIM, EUI HWAN |
| 分类号 |
H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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