发明名称 正型光阻剂及其构造体之制造方法
摘要 本发明之目的在于提供一种正型光阻剂以及藉由使用该光阻剂之光阻图案形成有电路的构造体之制造方法,上述正型光阻剂系可藉由低浓度硷性水溶液或中性水实施显影,可藉由臭氧水而易于剥离,又,较不易残留浮渣且可减少成本以及环境负担者。本发明系关于一种包含酚醛清漆树脂之正型光阻剂、以及使用该正型光阻剂且藉由光阻图案形成有电路的构造体之制造方法,上述酚醛清漆树脂包含结合有两个以上羟基之苯核且重量平均分子量在1000~20000范围;上述构造体之制造方法包含下述步骤:使用上述正型光阻剂于基板表面形成光阻膜之步骤,使光阻膜曝光显影之步骤,使用所显影之光阻图案形成电路之步骤以及去除光阻膜之步骤。
申请公布号 TW200537245 申请公布日期 2005.11.16
申请号 TW093135731 申请日期 2004.11.19
申请人 积水化学工业股份有限公司 发明人 中村雅则;森伸浩
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本
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