矽膜形成装置

摘要

(课题)在比较低的温度下能够便宜且更高速地来形成所希望的矽膜。(解决手段)本发明是一具备有：成膜室10、被设置在该室内的矽溅镀靶2、将氢气供给到该室内的氢气供给回路102或102’、及将高频电力施加在被供给到成膜室10内的氢气而产生感应结合电浆的高频电力施加装置(天线1、1’、电源PW等)，藉由该电浆针对矽溅镀靶实施化学溅镀而在基板S上形成矽膜的矽膜形成装置。也可以同时使用矽烷气体。也可以在矽烷气体供给回路101设置气体储存部GR。