| 发明名称 | 用偏振光的光刻印刷 | ||
| 摘要 | 本发明提供用偏振光改进光刻印刷的系统和方法。在本发明的实施例中，用偏振光(径向或切向偏振的)照明相移掩模(PSM)并产生曝光光束。然后用曝光光束中的光，使负的光致抗蚀剂层曝光。可以用无隔的PSM。在本发明另外的实施例中，用径向偏振光照明掩模，并产生曝光光束。然后用曝光光束中的光，使正的光致抗蚀剂层曝光。掩模可以是衰减的PSM或二进制掩模。即使在低k应用中在各种孔距上印刷接触孔，也能获得非常高的像质量。 | ||
| 申请公布号 | CN1698011A | 申请公布日期 | 2005.11.16 |
| 申请号 | CN200480000139.0 | 申请日期 | 2004.02.23 |
| 申请人 | ASML控股股份有限公司 | 发明人 | 纳毕拉·巴巴阿里;贾斯汀·克鲁瑟;哈里·希威尔 |
| 分类号 | G03B27/54;G03B27/72;G03F9/00 | 主分类号 | G03B27/54 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 蒋世迅 |
| 主权项 | 1.一种在晶片上印刷的方法，包括：(a)以偏振的照明光产生曝光光束，其中的照明光是按照预定的偏振模式偏振的；(b)照明掩模，在曝光光束中产生像；和(c)用曝光光束中的光，使晶片上的光致抗蚀剂层曝光。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||