| 发明名称 |
CORRECTION LENS SYSTEM FOR A PARTICLE BEAM PROJECTION DEVICE |
| 摘要 |
<p>Es ist ein Korrekturlinsen-System für ein Partikelstrahl-Projektionsgerät mit mindestens einer ersten und einer zweiten magnetischen Linse (20a, 20b) offenbart. Es sind mehrere Korrekturlinsenpaare (23, 24, 25) zwischen der ersten und der zweiten magnetischen Linse (20a, 20b) und dem Partikelstrahls (1) angeordnet.</p> |
| 申请公布号 |
WO2005104169(A1) |
申请公布日期 |
2005.11.03 |
| 申请号 |
WO2005EP50781 |
申请日期 |
2005.02.24 |
| 申请人 |
LEICA MICROSYSTEMS LITHOGRAPHY GMBH;DOERING, HANS-JOACHIM;ELSTER, THOMAS |
发明人 |
DOERING, HANS-JOACHIM;ELSTER, THOMAS |
| 分类号 |
H01J37/30;H01J37/317;(IPC1-7):H01J37/317 |
主分类号 |
H01J37/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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