发明名称 | 激光结晶设备及激光结晶方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种激光结晶设备(1),其能够以几μm的高空间分辨率和几纳秒的高瞬时分辨率进行观察,该设备包括用于将激光照射到设置在衬底(26)上的薄膜并熔化和结晶该薄膜的结晶光学系统(2),所述激光结晶设备(1)包括:照明光源(31),设置在激光的光学路径之外并发射照亮所述薄膜以便进行观察的照明光;照明光学系统(3),包括环形光学元件(3A),环形光学元件(3A)具有位于中心处的激光的光学路径,并将照明光沿所述光学路径从照明光源(31)引导至薄膜上;和观察光学系统(4),用于显示包括薄膜的衬底(26)的放大图像。 | ||
申请公布号 | CN1691278A | 申请公布日期 | 2005.11.02 |
申请号 | CN200510078817.1 | 申请日期 | 2005.03.11 |
申请人 | 株式会社液晶先端技术开发中心 | 发明人 | 高见芳夫 |
分类号 | H01L21/00;H01L21/20 | 主分类号 | H01L21/00 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 夏青 |
主权项 | 1、一种激光结晶设备,包括结晶光学系统,该结晶光学系统将激光照射到设置在衬底上的薄膜上并熔化和结晶该薄膜,所述激光结晶设备的特征在于包括:照明光源,设置在所述激光的光学路径之外,并且发射用于观察的照明光,以照亮所述薄膜;照明光学系统,包括环形光学元件,所述环形光学元件在中心处具有所述激光的所述光学路径,并将所述照明光沿所述光学路径从所述照明光源引导至所述薄膜上;和观察光学系统,其以放大的图像来显示包括所述薄膜的所述衬底的图像。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |