用于在串列式设备中被覆基板之方法

摘要

本发明系相关于一种用于在串列式设备中被覆基板之方法，其中一个基板系被移动通过至少一个被覆容室并且在此移动期间被被覆。在此一方法中，首先，被覆容室的一个模型系被形成，其系考虑到藉由基板移动通过被覆容室所造成容室参数之改变。随后，基板在被覆容室内的特定位置系被取得。容室参数系随后根据被覆容室之模型而基于基板的位置来加以设定。