含氮之有机化合物、光阻材料及形成图型之方法

摘要

本发明系一种化学增幅型光阻材料，其特征系含有一种或两种以上之(A)具有芳香族羧酸酯结构之含氮之有机化合物。使用本发明之含氮之有机化合物所调制的光阻材料可提供高解像性及良好图型形状，可用于使用电子线或远紫外线之微细加工。特别是KrF光阻、ArF光阻、F2光阻、EUV光阻、EB光阻、X射线光阻可提供较高的调配效果，适合作为制造超LSI用之微细图型形成材料。093134717-p01.bmp