发明名称 制备聚芳硫醚的方法
摘要 提出一种用以连续制造聚芳硫醚(PAS)的方法,其包含使硫来源与二卤化芳族化合物在有非质子溶剂存在时反应,其特征在于该方法包含至少一个聚合反应步骤,其中,聚合物相(分散相)是球状液滴形式。藉连续聚合法,其能够自聚合槽排出比例稳定的聚合物相和溶剂相,使得PAS组成(浓度)一直维持稳定,藉此提供能够有效用以增进和稳定其分子量的PAS连续制法。
申请公布号 TWI242567 申请公布日期 2005.11.01
申请号 TW091104420 申请日期 2002.03.08
申请人 出光石油化学股份有限公司;财团法人石油产业活性化中心 发明人 千贺实;冈本正哉;林干也
分类号 C08F216/04;C08L29/02;C08F214/18 主分类号 C08F216/04
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种用以连续制造聚芳硫醚的方法,其包含使硫 来源与二卤化芳族化合物在有非质子溶剂存在时 反应,其特征在于该方法包含至少一个聚合反应步 骤,其中,聚合物相(分散相)是球状液滴形式。 2.如申请专利范围第1项之制法,其中,聚合反应步 骤于230至280℃的温度范围内进行。 3.如申请专利范围第1项之制法,其中,相分离剂和 非质子有机溶剂先引至反应器中,之后进行连续聚 合反应步骤。 4.如申请专利范围第1项之制法,其中,相分离剂是 氯化锂。 5.如申请专利范围第1项之制法,其中,非质子有机 溶剂是N-烷基己内醯胺或N-烷基-咯酮。 6.如申请专利范围第1项之制法,其中,硫来源和二 卤化芳族化合物先于非质子有机溶剂中分批聚合, 使得聚合物相成为球状液滴,之后进行连续聚合反 应步骤。 7.如申请专利范围第1项之制法,其中,进行预聚反 应。 8.如申请专利范围第7项之制法,其中,预聚反应于 180至280℃的温度范围内进行。
地址 日本