| 主权项 |
1.一种偶合有机化合物之方法,其特征在于在至少 一种微反应器中,于至少一种液体或溶解型式之触 媒的存在下,令至少一种液体或溶解型式之含有至 少一个离去基的有机化合物与至少一种液体或溶 解型式之含有乙烯型氢原子或乙炔型氢原子的有 机化合物相混合并于滞留时间发生反应,且如有需 要自反应混合物分离所生成之偶合产物,其中该微 反应器具有直径从10至1000m之孔道,反应混合物 系以流速从0.011/分至100ml/分流经该微反应器,该 微反应器中所使用之化合物的滞留时间(于该微反 应器和毛细管中之适当的滞留时间)系≦15小时,及 该方法系在温度从-78至+150℃间进行。 2.如申请专利范围第1项之方法,其特征在于该微反 应器系小型连续反应器。 3.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 微反应器系静态微混合器。 4.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 微反应器系经由出口管连接毛细管。 5.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 微反应器系经由出口管连接可加热之毛细管。 6.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 微反应器之体积系≦1001。 7.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 微反应器之体积系≦501。 8.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 微反应器系可加热的。 9.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 微反应器具有孔道,该孔道之直径系20至800m。 10.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 微反应器具有孔道,该孔道之直径系30至400m。 11.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于流 经该微反应器之反应混合物的流速系系11/分至1 ml/分。 12.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 微反应器中所使用之化合物的滞留时间(于该微反 应器和毛细管中之适当的滞留时间)系≦3小时。 13.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 微反应器中所使用之化合物的滞留时间(于该微反 应器和毛细管中之适当的滞留时间)系≦1小时。 14.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于进 行该方法之温度系介于-100至+250℃。 15.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于进 行该方法之温度系介于0至+40℃。 16.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 方法系于保护性气体环境下进行。 17.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 方法系于氮气及/或氩气环境下进行。 18.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于在 该反应过程后系进行层析,且如有需要予以调控。 19.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于在 该反应过程后系进行高效液相层析且如有需要予 以调控。 20.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于藉 由萃取自该反应混合物中分离所生成之偶合产物 。 21.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于含 有至少一个离去基之有机化合物系芳基卤,杂芳基 卤,卤乙烯,或至少2个上述之化合物的混合物。 22.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于含 有至少一个离去基之有机化合物系芳基溴,芳基碘 ,杂芳基溴、杂芳基碘,溴乙烯或碘乙烯,或至少2个 上述之化合物的混合物。 23.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于含 有至少一个离去基之有机化合物系芳基碘,杂芳基 碘,碘乙烯,或至少2个上述之化合物的混合物。 24.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于含 有至少一个离去基之有机化合物系有机氟烷基磺 酸酯,有机多氟烷基磺酸酯,或至少2个上述之化合 物的混合物。 25.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于含 有至少一个离去基之有机化合物系氟烷基磺酸芳 酯,氟烷基磺酸杂芳酯,氟烷基磺酸乙烯酯,多氟烷 基磺酸芳酯,多氟烷基磺酸杂芳酯或多氟烷基磺酸 乙烯酯,或至少2个上述之化合物的混合物。 26.如申请专利范围第24项之方法,其特征在于所使 用之有机多氟烷基磺酸酯系三氟甲烷磺酸芳酯,三 氟甲烷磺酸杂芳酯,三氟甲烷磺酸乙烯酯或至少2 个上述之化合物的混合物。 27.如申请专利范围第24项之方法,其特征在于所使 用之有机多氟烷基磺酸酯系九氟丁烷磺酸芳酯,九 氟丁烷磺酸杂芳酯,九氟丁烷磺酸乙烯酯,或至少2 个上述之化合物的混合物。 28.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 含有至少一个乙烯型氢原子或乙炔型氢原子之化 合物系至少一种非支链,支链,环状,芳族或杂芳族 烯或炔。 29.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于该 含有至少一个乙烯型氢原子或乙炔型氢原子之化 合物系至少一种非支链,支链,环状,芳族或杂芳族 烯。 30.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于所 使用之触媒系至少一种含有氧化状态为0之钯的化 合物。 31.如申请专利范围第30项之方法,其特征在于所使 用之触媒系三(二叉丙酮)二钯。 32.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于在 至少一种硷之存在下,如有需要在至少一种无机盐 之存在下且如有需要在至少一种配体之存在下,所 使用之触媒系至少一种含有氧化状态为+2之钯的 化合物。 33.如申请专利范围第32项之方法,其特征在于所使 用之钯化合物系氯化钯(Ⅱ),乙酸钯(Ⅱ),二(三苯膦 )二氯化钯(Ⅱ)或该等化合物之混合物。 34.如申请专利范围第32项之方法,其特征在于所使 用之硷系有机胺,含氮可选择之芳族杂环,或至少2 个上述之化合物的混合物。 35.如申请专利范围第32项之方法,其中该有机胺为 三乙胺,二乙胺或三正丁胺,及该芳基杂环为啶 或N-甲基咯烷酮。 36.如申请专利范围第32项之方法,其特征在于所使 用之无机盐系碘化铜(Ⅰ)。 37.如申请专利范围第32项之方法,其特征在于所使 用之配体系膦,胺,亚胺,或至少2个上述之化合物的 混合物。 38.如申请专利范围第32项之方法,其中该膦为三苯 膦。 39.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于含 有至少一个离去基之有机化合物对含有至少一个 乙烯型氢原子或乙炔型氢原子之有机化合物的莫 耳比系为等莫耳,或在于基于该含有至少一个离去 基之有机化合物,该含有至少一个乙烯型氢原子或 乙炔型氢原子之有机化合物的量系为1.05至2倍过 量。 40.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于含 有至少一个离去基之有机化合物对含有至少一个 乙烯型氢原子或乙炔型氢原子之有机化合物的莫 耳比系为等莫耳,或在于基于该含有至少一个离去 基之有机化合物,该含有至少一个乙烯型氢原子或 乙炔型氢原子之有机化合物的量系为1.1至1.6倍过 量。 41.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于含 有至少一个离去基之有机化合物对含有至少一个 乙烯型氢原子或乙炔型氢原子之有机化合物的莫 耳比系为等莫耳,或在于基于该含有至少一个离去 基之有机化合物,该含有至少一个乙烯型氢原子或 乙炔型氢原子之有机化合物的量系为1.2至1.5倍过 量。 42.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于基 于该含有至少一个离去基之化合物,所使用之触媒 量系介于0.01至110莫耳%。 43.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于基 于该含有至少一个离去基之化合物,所使用之触媒 量系介于0.01至50莫耳%。 44.如申请专利范围第1或2项之方法,其特征在于基 于该含有至少一个离去基之化合物,所使用之触媒 量系介于0.01至1莫耳%。 |
