| 发明名称 | 平面化用的抛光垫片 | ||
| 摘要 | 本发明涉及抛光垫片。尤其，本发明的抛光垫片包括下层，中间层，和用作抛光层的顶层。本发明的抛光垫片能够用于抛光制品和尤其用于微电子设备如半导体晶片的化学机械抛光或平面化。 | ||
| 申请公布号 | CN1684799A | 申请公布日期 | 2005.10.19 |
| 申请号 | CN03822957.9 | 申请日期 | 2003.09.18 |
| 申请人 | PPG工业俄亥俄公司 | 发明人 | W·C·阿利森;R·斯舍尔;A·E·王 |
| 分类号 | B24B37/04;B24D13/12;B24D13/14 | 主分类号 | B24B37/04 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 龙传红 |
| 主权项 | 1.抛光垫片，包括：a.下层；b.中间层；和c.顶层，其中该顶层至少部分地连接到该中间层和该中间层至少部分地连接到该下层，和其中该顶层吸收至少2wt％的抛光淤浆，以顶层的总重量为基础计。 | ||
| 地址 | 美国俄亥俄州 | ||