发明名称 大尺寸光罩基材可接受缺陷定位及光罩生产方法
摘要 一种大尺寸光罩基材可接受缺陷定位及光罩生产方法,在于整个大尺寸光罩基材(空白光罩)或蚀刻后未修补前光罩的缺陷资讯被光罩检查装置读出后,进一步被区分为关键区域和非关键区域两部分的缺陷资讯。所谓关键区域是指不可被接受的缺陷位置,而非关键区域是指可被接受的缺陷位置。对大尺寸光罩基材而言,若缺陷位置均位于非关键区域内,则此光罩基材被视为可接受。而对大尺寸光罩部分,光罩修补系统只需对位于关键区域的光罩缺陷进行修补即可。
申请公布号 TW200534037 申请公布日期 2005.10.16
申请号 TW093109840 申请日期 2004.04.09
申请人 盟图科技股份有限公司 发明人 何明丰
分类号 G03F1/14 主分类号 G03F1/14
代理机构 代理人 范森雄
主权项
地址 新竹市新竹科学园区科技五路6号