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发明名称
大尺寸光罩基材可接受缺陷定位及光罩生产方法
摘要
一种大尺寸光罩基材可接受缺陷定位及光罩生产方法,在于整个大尺寸光罩基材(空白光罩)或蚀刻后未修补前光罩的缺陷资讯被光罩检查装置读出后,进一步被区分为关键区域和非关键区域两部分的缺陷资讯。所谓关键区域是指不可被接受的缺陷位置,而非关键区域是指可被接受的缺陷位置。对大尺寸光罩基材而言,若缺陷位置均位于非关键区域内,则此光罩基材被视为可接受。而对大尺寸光罩部分,光罩修补系统只需对位于关键区域的光罩缺陷进行修补即可。
申请公布号
TW200534037
申请公布日期
2005.10.16
申请号
TW093109840
申请日期
2004.04.09
申请人
盟图科技股份有限公司
发明人
何明丰
分类号
G03F1/14
主分类号
G03F1/14
代理机构
代理人
范森雄
主权项
地址
新竹市新竹科学园区科技五路6号
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