发明名称 带有外延隐埋层的瓶形沟槽式电容器
摘要 瓶形沟槽式电容器,其具有拓展的沟槽下部,在该拓展的沟槽下部内有epi层。该epi层起沟槽式电容器的隐埋极板的作用。一个扩散区包围拓展的沟槽下部,用以增强epi层的掺杂剂浓度。扩散区例如是通过汽相掺杂、等离子体掺杂或等离子体浸没离子注入法形成的。
申请公布号 CN1223000C 申请公布日期 2005.10.12
申请号 CN99108861.1 申请日期 1999.06.28
申请人 西门子公司;国际商业机器公司 发明人 M·施雷姆斯;H·谢菲尔;J·曼德尔曼;R·斯藤格尔;J·赫普夫纳
分类号 H01L27/108 主分类号 H01L27/108
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 王勇;王忠忠
主权项 1.一种半导体集成电路,包括:瓶形沟槽式电容器,其包括拓展的沟槽下部;和外延层,它衬在位于一个氧化物衬垫圈下方侧壁的拓展的沟槽下部的侧壁上,所述氧化物衬垫圈衬在沟槽的上部,该外延层与沟槽中的氧化物衬垫圈相邻,以使该氧化物衬垫圈和该外延层没有在该沟槽的侧壁上重叠。
地址 联邦德国慕尼黑