发明名称 METHOD AND ARRANGEMENT FOR PRODUCTION OF GRADIENT LAYERS OR LAYER SEQUENCES BY MEANS OF PHYSICAL VACUUM ATOMISATION
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zur Herstellung einer Gradientenschicht oder Schichtenfolge auf einem Substrat durch physikalische Vakuumzerstäubung von zumindest zwei Targets, wobei die Beschichtung unter einer geeigneten Beschichtungsatmosphäre erfolgt, dabei das Substrat relativ zur Beschichtungsquelle bewegt wird und die Parameter der Leistungseinspeisung der die Targets tragenden Magnetron-Kathoden voneinander abweichen. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Anordnung zur Herstellung von Gradientenschichten oder Schichtenfolgen darzustellen, mit denen der Gradient, die Zusammensetzung und die Morphologie der Gradientenschicht gezielter einstellbar, die Zusammensetzung der einzelnen Teilschichten im Verlaufe des Herstellungsverfahrens unabhängig voneinander regelbar sind und eine Verringerung des anlagentechnischen Aufwandes möglich ist. Die Aufgabenstellung wird gelöst, indem die Beschichtung in einem Beschichtungskompartment mittels zwei, jeweils ein Target tragenden Magnetron-Kathoden erfolgt, indem gleichzeitig mittels des ersten Targets eine erste Teilschicht, im Übergangsbereich vom ersten zum zweiten Target eine Mischschicht und mittels des zweiten Targets eine zweite Teilschicht abgeschieden wird und dass die Leistungsregelung für jede Magnetron-Kathode unabhängig erfolgt.</p>
申请公布号 WO2005093781(A1) 申请公布日期 2005.10.06
申请号 WO2005DE00532 申请日期 2005.03.22
申请人 VON ARDENNE ANLAGENTECHNIK GMBH;FIUKOWSKI, JOERG;LIST, MATTHIAS;MILDE, FALK;KOECKERT, CHRISTOPH 发明人 FIUKOWSKI, JOERG;LIST, MATTHIAS;MILDE, FALK;KOECKERT, CHRISTOPH
分类号 C23C14/00;C23C14/35;C23C14/56;H01J37/34;(IPC1-7):H01J37/34 主分类号 C23C14/00
代理机构 代理人
主权项
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