| 发明名称 |
Vapor reactant source system with choked-flow elements |
| 摘要 |
A source system for introducing gaseous source chemicals to a reaction space is provided. The source system comprises an inactive gas source, a pressure controller, a reactant supply source, a gas flow control valve and a choked-flow element.
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| 申请公布号 |
US2005221004(A1) |
申请公布日期 |
2005.10.06 |
| 申请号 |
US20050039364 |
申请日期 |
2005.01.19 |
| 申请人 |
KILPELA OLLI V;KOSTAMO JUHANA |
发明人 |
KILPELA OLLI V.;KOSTAMO JUHANA |
| 分类号 |
C23C16/00;(IPC1-7):C23C16/00 |
主分类号 |
C23C16/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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