液晶显示器件及其制造方法

摘要

本发明公开了一种通过同时蚀刻涂覆层和下绝缘层而简化制造工序的液晶显示器件及其制造方法。所公开的液晶显示器件制造方法包括：在基板的有源区上形成薄膜晶体管(TFT)；形成栅焊盘区和数据焊盘区，以及在基板的整个表面上形成钝化层。该制造方法还包括形成涂覆层并且选择性地蚀刻该涂覆层。由一工序通过选择性地蚀刻涂覆层、钝化层和栅绝缘层形成用于象素电极、栅焊盘和数据焊盘的接触孔。

主权项

1、一种液晶显示器件，包括：栅线和栅焊盘，位于基板上；栅绝缘层，位于所述基板包括所述栅线而除栅焊盘之外的整个表面上；数据线和数据焊盘，位于所述栅绝缘层上；薄膜晶体管，位于所述栅线和数据线的交叉部分；钝化层，位于所述基板的包括所述薄膜晶体管而除栅焊盘和数据焊盘之外的整个表面上；涂覆层，位于所述钝化层上；象素电极，其通过在所述钝化层和涂覆层中形成的接触孔与所述薄膜晶体管相接触；第一透明导电层，其接触并覆盖所述栅焊盘；以及第二透明导电层，其接触并覆盖所述数据焊盘。