| 发明名称 | 用于操作皮秒成像电路分析/高电流源系统的方法、系统和设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供了用于操作皮秒成像电路分析(PICA)/高电流源系统的方法、系统和设备，包括将来自高电流脉冲源的脉冲施加到被测器件(DUT)。光传感器探测来自DUT的光子发射。使用来自光传感器装置的信号来映射来自DUT的光子发射。数据处理装置使光子发射与DUT的特定特征相关。 | ||
| 申请公布号 | CN1677120A | 申请公布日期 | 2005.10.05 |
| 申请号 | CN200510059824.7 | 申请日期 | 2005.03.31 |
| 申请人 | 国际商业机器公司 | 发明人 | N·P·珊达;S·H·沃尔德曼;A·J·韦格 |
| 分类号 | G01R31/311;G01R31/26;G01R31/28;H01L21/66 | 主分类号 | G01R31/311 |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 于静;杨晓光 |
| 主权项 | 1.一种用于操作皮秒成像电路分析/高电流源系统的方法，包括：将来自高电流脉冲源的脉冲施加到被测器件；采用光传感器装置，探测来自所述被测器件的光子发射；接收来自所述光传感器装置的信号以映射来自所述被测器件的光子发射；以及采用数据处理装置，使所述光子发射与所述被测器件的特定特征相关。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||