| 发明名称 | 正型抗蚀剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供掩模线性优异的正型抗蚀剂组合物。该抗蚀剂组合物为含有基础树脂组分(A)、通过曝光产生酸的酸发生剂组分(B)的正型抗蚀剂组合物，所述基础树脂组分(A)是硅树脂，所述酸发生剂组分(B)含有以碳数3或4的全氟烷基磺酸根离子为阴离子的鎓盐类酸发生剂(B1)。 | ||
| 申请公布号 | CN1677235A | 申请公布日期 | 2005.10.05 |
| 申请号 | CN200510062432.6 | 申请日期 | 2005.03.28 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 细野隆之;田村弘毅;川名大助;山田知孝 |
| 分类号 | G03F7/039;G03F7/004 | 主分类号 | G03F7/039 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 1.一种正型抗蚀剂组合物，其含有基础树脂组分(A)和通过曝光产生酸的酸发生剂组分(B)，其特征在于：所述基础树脂组分(A)是硅树脂，所述酸发生剂组分(B)含有以碳数3或4的全氟烷基磺酸根离子为阴离子的鎓盐类酸发生剂(B1)。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||