发明名称 具有多角镜之雷射处理装置
摘要 本揭示系指一种采用多角镜而能够有效率地处理一目标物之雷射处理装置。该装置包含一用以发射一雷射射束之雷射产生器;一于该轴上旋转且具复数个反射平面之多角镜,该等平面系反射来自该雷射产生器而入射于其上之雷射射束;以及一透镜,其系在将从该多角镜来的雷射射束予以缩聚后,可将该雷射射束照射至一经放置于一平台上之目标物,即如一晶圆。在根据该多角镜之旋转而将雷射射束施加于该晶圆时,其上经放置该晶圆之平台可移动,以提高该雷射射束的相对扫描速度,其系可提供有效率的晶圆切割作业。由于其系仅运用雷射射束以切割晶圆,从而不需要改变任何额外装置,如此改善处理速度及切割效率。此外,该者亦可用于控制切割宽度,并且防止在切割处理过程中从该晶圆所产生之蒸气沉积在该晶圆切割区段上的重铸效应,从而可完成具有高度细致及精密维度的晶圆切割处理。
申请公布号 TWI241060 申请公布日期 2005.10.01
申请号 TW093117466 申请日期 2004.06.17
申请人 EO科技股份有限公司 发明人 韩裕熙
分类号 H01S3/00 主分类号 H01S3/00
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 1.一种具有多角镜之雷射处理装置,其系用于藉由一雷射射束而处理一目标物,该雷射处理装置系包含:一雷射产生器,其系用以发射该雷射射束;一多角镜,其系建构有复数个反射平面,当绕于一轴心而旋转时,其上可将从该雷射产生器所发射之雷射射束予以反射;以及一透镜,其系用以缩聚在该多角镜上所反射之雷射射束,并将该雷射射束照射到该目标物上。2.如申请专利范围第1项所述之具有多角镜之雷射处理装置,其系进一步包含:一多角镜驱动器,其系按一固定速度旋转该多角镜,以令该等反射平面按一预设角速度而环绕;一平台,其上放置一目标物;以及一平台传送单元,此者可用以将该平台传送朝向一预设方向。3.如申请专利范围第2项所述之具有多角镜之雷射处理装置,其中该平台传送单元系按与该多角镜之旋转方向相反的方向传送该平台。4.如申请专利范围第1项所述之具有多角镜之雷射处理装置,其系进一步包含一射束转换器,其系用以将经该透镜所缩聚之雷射射束的截面样式转换成一椭圆形。5.如申请专利范围第4项所述之具有多角镜之雷射处理装置,其中该射束转换器系将该雷射射束转换为如椭圆形之截面样式的形状,其之长直径为沿一处理方向所排置,然后将经转换之雷射射束照射到该目标物上。6.如申请专利范围第5项所述之具有多角镜之雷射处理装置,其中该雷射射束之椭圆形截面的短直径与该雷射射束之处理宽度相关连,可藉控制该短直径来调整该宽度。7.一种具有多角镜而用以处理晶圆之雷射处理装置,其系包含:一雷射产生器,其系用以发射一雷射射束;一多角镜,其系建构有复数个反射平面,当绕于一轴心而旋转时,其上可将从该雷射产生器所发射之雷射射束予以反射;以及一透镜,其系用以缩聚在该多角镜上所反射之雷射射束,并将该雷射射束照射到一经置放在一平台上之目标物。8.如申请专利范围第7项所述之雷射处理装置,其系进一步包含:一多角镜驱动器,其系按一固定速度旋转该多角镜,以令该等反射平面按一预设角速度而环绕;以及一平台传送单元,其系用以将该平台传送朝向一预设方向。9.如申请专利范围第8项所述之雷射处理装置,其中该平台传送单元系按与该多角镜之旋转方向相反的方向传送该平台。10.如申请专利范围第7项所述之雷射处理装置,其进一步包含一射束转换器,其系用以将经该透镜所缩聚之雷射射束的截面样式转换成一椭圆形。11.如申请专利范围第10项所述之雷射处理装置,其中该射束转换器系将该雷射射束转换为如椭圆形之截面样式的形状,其长直径为沿一处理方向所排置,然后将经转换之雷射射束照射到该目标物上。12.如申请专利范围第11项所述之雷射处理装置,其中该雷射射束之椭圆形截面的短直径与该雷射射束之处理宽度相关连,可藉控制该短直径来调整该宽度。13.如申请专利范围第10项所述之雷射处理装置,其系进一步包含一用以放大该雷射产生器所发射之雷射射束截面半径的射束扩张器,此经放大雷射射束在该多角镜上反射且入射于该射束转换器上后,其系被缩聚于该透镜上。14.如申请专利范围第7项所述之雷射处理装置,其中该透镜在其上缩聚该雷射射束,然后将该雷射射束垂直地照射到该晶圆。15.如申请专利范围第7项所述之雷射处理装置,其中,按照该多角镜旋转而来自该等反射平面之一所施加于晶圆之雷射射束的扫描长度系藉由该透镜的焦距与从该多角镜各反射平面所反射之雷射射束扫描角的乘积加以调整。16.如申请专利范围第15项所述之雷射处理装置,其中该雷射射束的扫描角系一由该反射平面之开始及后端部分所构成的反射角。17.如申请专利范围第7项所述之雷射处理装置,其中按照该多角镜旋转而从该反射平面所反射的雷射射束会依预设次数重叠而照射到该晶圆上,并且可藉由调整该多角镜角速度而同时该平台传送速度维持固定,来控制所预设之重叠数目。18.如申请专利范围第7项所述之雷射处理装置,其中按照该多角镜旋转而从该反射平面所反射的雷射射束会依预设次数重叠而照射到该晶圆上,并且可藉由调整该平台传送速度而同时该多角镜角速度维持固定,来控制所预设之重叠数目。图式简单说明:图1A到1C系为说明采用一根据本发明之多角镜的雷射处理装置概念特性的示意图。图2系说明采用一根据本发明之多角镜的雷射处理装置概念特性之示意图。图3系一说明根据本发明之雷射射束重叠处理之图。图4系一说明一根据本发明具有多角镜之雷射处理装置的示范性实施例之图。图5系一说明一具有根据本发明之多角镜的雷射处理装置另一实方包例的图。图6系一解释一根据本发明之目标物处理程序之流程图。图7系一说明一藉由具根据本发明之多角镜的雷射处理装置之晶圆处理组态设定之示意图。
地址 韩国