| 主权项 |
1.一种用于半导体制作之曝光机台,该曝光机台包含:一光源;一转动叶片式之快门元件,该转动叶片式之快门元件至少包含有被安装于同轴位置且可转动之复数个叶片,该些叶片各具有至少一透光区域,且该些叶片组合后可随重叠而调整一可变透光区域;以及一透镜组;其中藉由该转动叶片式之快门元件以控制该曝光机台之一曝光时间,且该光源穿透该转动叶片式之快门元件后系经由该透镜组照射到一晶圆上。2.如申请专利范围第1项之曝光机台,其中该转动叶片式之快门元件系由复数个三叶片(Triple-BladeShutter)所组成。3.如申请专利范围第1项之曝光机台,其中该转动叶片式之快门元件系使用至少一步进马达(step motor)调整该些叶片之相对位置。4.如申请专利范围第1项之曝光机台,其中该可变透光区域的大小系依据该光源的强度而决定。5.如申请专利范围第1项之曝光机台,其中该可变透光区域的大小系依据制程所需之一总曝光量(Dose)而决定。6.一种用于半导体制一作之曝光机台,该曝光机台包含:一光源;一转动叶片式之快门元件,该转动叶片式之快门元件系由安装于同轴位置且可转动之复数个三叶片(TripIe-Blade Shutter)所组成,该些三叶片各具有至少一透光区域,且该些三叶片组合后可随重叠而调整一可变透光区域;以及一透镜组;其中藉由该转动叶片式之快门元件以控制该曝光机台之一曝光时间,且该光源穿透该转动叶片式之快门元件后系经由该透镜组照射到一晶圆上。7.如申请专利范围第6项之曝光机台,其中该转动叶片式之快门元件系使用复数个步进马达(step motor)调整该些三叶片之相对位置。8.如申请专利范围第6项之曝光机台,其中该可变透光区域的大小系依据该光源的强度而决定。9.如申请专利范围第6项之曝光机台,其中该可变透光区域的大小系依据制程所需之一总曝光量(Dose)而决定。10.一种曝光方法,至少包含:提供具一可变透光区域之一转动叶片式之快门元件于一曝光机台中,其中该转动叶片式之快门元件系由可转动且位于同轴位置之复数个叶片所组成,该些叶片各具有至少一透光区域;依一曝光制程之一曝光量来调整该可变透光区域之面积;以及进行该曝光制程。11.如申请专利范围第10项之曝光方法,其中该转动叶片式之快门元件系由复数个三叶片所构成。12.如申请专利范围第11项之曝光方法,其中调整该可变透光区域之面积的步骤系为转动该第二三叶片,使该第一三叶片与该第二三叶片仅有部分叠合。13.如申请专利范围第11项之曝光方法,其中调整该可变透光区域之面积的步骤系使用至少一步进马达(step motor)调整该第一三叶片与该第二三叶片之相对位置。图式简单说明:图一为习知曝光机台的内部元件示意图。图二为习知三叶片的示意图。图三为依据本发明一较佳实施例,具有可变透光区之快门元件的示意图。 |
