| 主权项 |
1.一种微影投影装置,其包含: -一辐射系统,用于提供一辐射投影光束;及 -一基板固持器,用于支持待置放于该投影光束之 一光束路径内之一基板,该基板固持器包含界定一 突出组态之复数个突出部分,用于提供一大体上平 坦之支持平面以支持一大体上平坦之基板,该基板 固持器包含用于产生一电场以由该电场将该基板 夹持到该基板固持器之至少一个箝位电极;该基板 固持器进一步包含一配置成接触一基板之周边支 持边缘; 其特征在于: -该至少一个电极延伸出该周边支持边缘外以提供 一扭转负荷来在该基板边缘附近使基板保持齐平 。 2.如请求项1之微影投影装置,其中该电极延伸产生 一扭转负荷,其范围为自0.1至3倍的由 界定之一参 考扭转负荷,其中p为一应用箝位压力且a为两突 出部分之间的一平均距离。 3.如请求项2之微影投影装置,其中该突出组态配置 成一系列同心圆,且其中该电极延伸满足0.3<b/a<0.6 的关系,其中b为该电极延伸距离且a为最接近该周 边支持边缘的两同心圆之间的彼此间隔。 4.如前述请求项中任一项之微影投影装置,其特征 在于:该基板固持器包含一沿该周边支持边缘延伸 之接地电极。 5.如请求项1、2或3之微影投影装置,其特征在于:该 箝位电极包含一电场衰减器,其组态以提供大体上 与该突出组态互补之电场衰减来将该电场压力集 中至该等突出部分。 6.如请求项5之微影投影装置,其中该电场衰减器包 含一介电常数为4F/m至少200m之一介电层及/或一 接地层。 7.如请求项5之微影投影装置,其中该箝位电极在两 个相邻突出部分之间凹陷。 8.如请求项5之微影投影装置,其中该箝位电极突出 至每一该等突出部分内。 9.如请求项8之微影投影装置,其中该箝位电极覆盖 有一介电常数为4F/m至少20m的一介电层。 10.如请求项1、2或3之微影投影装置,其中该基板固 持器为一支持台,用于固持一基板,该基板待由一 图案化光束图案化于该基板之一目标部分上。 11.如前述请求项中任一项之微影投影装置的基板 固持器,其包含:界定一突出组态之复数个突出部 分,用于提供一大体上平坦之支持平面来支持一大 体上平坦之基板;至少一箝位电极,用于产生一电 场以由该电场将一基板夹持到该基板固持器;及一 配置成接触一基板之周边支持边缘; 其特征在于: -该至少一个电极延伸出该周边支持边缘外,用于 提供一扭转负荷以在该基板之边缘附近使基板保 持齐平。 12.一种微影投影装置,其包含: -一辐射系统,用于提供一辐射投影光束;及 -一基板固持器,用于支持待置放于该投影光束之 一光束路径内之一基板,其包含界定一突出组态之 复数个突出部分,用于提供一大体上平坦之支持平 面以支持一大体上平坦之基板,该基板固持器包含 用于产生一电场以由该电场将该基板夹持到该基 板固持器之至少一个箝位电极;该基板固持器进一 步包含一配置成接触一基板之周边支持边缘; 其特征在于: -该箝位电极包含一电场衰减器,其组态以提供大 体上与突出组态互补之电场衰减以将该电场压力 集中至该等突出部分。 13.一种微影投影装置,其包含: -一辐射系统,用于提供一辐射投影光束;及 -一图案化器件固持器,用于支持待置放于该投影 光束之一光束路径内之一图案化器件,其包含界定 一突出组态之复数个突出部分,用于提供一大体上 平坦之支持平面以支持一大体上该图案化构件之 背侧,该基板固持器包含用于产生一电场以由该电 场将该基板夹持到该基板固持器之至少一个箝位 电极;该基板固持器进一步包含一配置成接触一基 板之周边支持边缘; 其特征在于: -该至少一个电极延伸出该周边支持边缘外,用于 提供一扭转负荷以在该图案化器件边缘附近使基 板保持齐平。 图式简单说明: 图1描述了一根据本发明之一实施例之微影投影装 置; 图2描述了一根据本发明之基板固持器之图解俯视 图; 图3描述了一沿线I-I之图2之基板的图解部分视图; 图4描述了一根据本发明之基板固持器之另一实施 例的详细横截面图;及 图5描述了一根据本发明之基板固持器之第三实施 例的详细横截面图。 |
