| 主权项 |
1.一种超纯水微量有机物质之去除方法,包含下列 步骤: a)将一总可氧化碳(TOC)含量低于100ppb(十亿分之一) 的超纯水与臭氧接触,并且紫外光照射所获得之臭 氧水; b)将步骤a)经过紫外光照射后的臭氧水进行脱气处 理,以去除水中的溶氧、二氧化碳及挥发性有机物 ; c)将步骤b)经过脱气处理后的水与一离子吸附单元 接触,而使得水中的TOC量降低;及 d)以步骤c)经过离子吸附单元接触后的水为进料, 依序重覆臭氧接触及紫外光照射直到水中的TOC小 于一预定値1ppb,其中水温范围为251℃,其中流出水 经阀件控制回流之流量比例,回流比例范围为1:0.2- 10。 2.如申请专利范围第1项的方法,其中该预定値为0.5 ppb。 3.如申请专利范围第1项的方法,其中该预定値为0.3 ppb。 4.如申请专利范围第1项的方法,其中步骤d)进一步 包含在接续进行的臭氧接触及紫外光照射的任两 个循环之间加入脱气处理及/或离子吸附单元处理 。 5.如申请专利范围第1或4项的方法,其中该离子吸 附单元为离子交换树脂。 6.如申请专利范围第5项的方法,其中该离子交换树 脂包含阳离子交换树脂及阴离子交换树脂。 7.如申请专利范围第1或4项的方法,其中该离子吸 附单元包含电解形式之去离子设备。 8.如申请专利范围第1项的方法,其中的水与臭氧接 触包含水与一臭氧来源气体混合,而形成臭氧浓度 介于10-1000ppb的臭氧水。 9.如申请专利范围第1或4项的方法,其中的脱气处 理包含抽真空及/或通过脱气膜组。 图式简单说明: 图一依本发明的一较佳具体实施例而完成的一种 超纯水中微量有机物之去除系统的示意方块图。 图二依本发明的另一较佳具体实施例而完成的一 种超纯水中微量有机物之去除系统的示意方块图 。 |
